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  • Product laser

    產(chǎn)品中心
    晶圓激光清洗/減薄設(shè)備
    產(chǎn)品簡(jiǎn)介
    以精密的激光微處理技術(shù)替代晶圓制造中的濕刻及化學(xué)機(jī)械研磨工藝,從而實(shí)現(xiàn)晶圓表面各種薄膜的去除,并保證晶圓表面良好的微觀質(zhì)量。
    產(chǎn)品特點(diǎn)

    薄膜去除深度靈活,最小支持深度0.33μm

    支持晶圓制造中各類無(wú)機(jī)/金屬薄膜去除,如:oxide/nitride/poly si/metal

    優(yōu)異的平整度均勻性,表面幾乎零缺陷

    精密的激光控制系統(tǒng),熱影響小

    零耗材、低污染,成本優(yōu)勢(shì)明顯

    產(chǎn)能優(yōu)異

    兼容8~12寸晶圓

    應(yīng)用領(lǐng)域
    裸晶圓、控片、測(cè)試片、擋片
    技術(shù)指標(biāo)
    設(shè)備型號(hào) DR-S-WLC200 DR-S-WLC300 DR-S-WLT200 DR-S-WLT300
    適用晶圓尺寸 8 12 8 12
    激光能量密度 ≥30J/cm2 ≥80J/cm2
    激光輸出穩(wěn)定性  5%RMS,4hrs
    移除深度 2-10μm 2-10μm 30-100μm 30-100μm
    TTV ≤2μm ≤3μm ≤8μm ≤15μm
    區(qū)域平整度(20*20 ≤0.15μm ≤0.3μm ≤1μm ≤2μm
    設(shè)備產(chǎn)能 ≥25 ≥15 ≥40 ≥25
    應(yīng)用案例